Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 溅射或热蒸发薄膜沉积系统是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计特别适合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面积，提供了实惠的价格点，同时保持了您期望从 KJLC 获得的质量。

电子束蒸发镀膜设备CMS系列极其强大的优良研究工具 设计用于适应特定的薄膜应用，如 GMR、CMS、半导体、纳米级器件、光子学和光伏 系统设计可以配置为真正的超高真空性能 经过现场测试和验证的设计

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控溅射镀膜设备专为磁控溅射沉积应用而设计。为满足 UHV 溅射工艺需求而定制的腔室设计、具有高级编程、负载锁定功能的行业*软件控制系统以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新设计提供的一些优势。®

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台是一种模块化、功能齐全的薄膜沉积系统，可实现 8 英寸晶圆转移、多达 8 个溅射阴极和 eKLipse 高级控制软件。

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75 在全球拥有 400 多台设备，是一款久经考验、坚固耐用且用途广泛的设计。PRO Line PVD 75 建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、自动

Veeco 的单靶点 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供了最大的灵活性。NEXUS PVD 的加工精度为 200 毫米，具有先进的工艺能力、均匀性和多种沉积模式