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ELEDE® 380系列 芯片刻蚀机，优良的等离子体发生装置，适用多种材料刻蚀，工艺窗口宽。
更新时间：2024-09-05
型号：ELEDE® 380系列
厂商性质：经销商
浏览量：352
Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统。
更新时间：2024-09-05型号：Orion Proxima厂商性质：经销商浏览量：295
Polaris系列 12英寸通用物理气相沉积系统，磁控溅射源和腔室结构的设计有效提高靶材利用率。
更新时间：2024-09-05型号：Polaris系列厂商性质：经销商浏览量：301
Polaris系列8英寸 通用物理气相沉积系统，多种材料膜层工艺能力，低损伤，高深宽比填充能力。
更新时间：2024-09-05型号：Polaris系列厂商性质：经销商浏览量：277
eVictor Al PVD 铝物理气相沉积系统，优良的磁控溅射系统，有效提高薄膜均匀性及靶材利用率。
更新时间：2024-09-05型号：eVictor Al PVD厂商性质：经销商浏览量：431
GDE C200系列 高密度 刻蚀机，等离子体源和频率设计，等离子体密度高，适用于强键合材料刻蚀。
更新时间：2024-09-05型号：GDE C200系列厂商性质：经销商浏览量：478
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