DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、微光学和微流体器件、传感器、全息图以及防伪特征的掩模和晶圆的高通量图案化。 专业灰度光刻模式可以在大面积的厚光刻胶中对复杂的 2.5D 结构进行图案化。最小特征尺寸为 500 nm，写入区域最大为 400 x 400 mm

MPO 100双光子聚合直写光刻机是一种双光子聚合 （TPP） 多用户工具，用于微结构的 3D 光刻和 3D 显微打印，适用于微光学、光子学、微机械学和生物医学工程。模块化 3D 打印平台 MPO 100 可按需提供高精度 3D 光刻以及 3D 显微打印的高打印量，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的功能性微结构。

无掩模对光刻机 MLA 300 提供高吞吐量、简化的工作流程以及与制造执行系统 （MES） 的集成。该工具用于生产传感器和传感器 IC、MEMS 和微流体器件。其他应用包括分立电子元件、模拟和数字 IC、ASIC、电力电子、OLED 显示器和先进封装。

VPG 300 DI 无掩模直接成像仪是一款体积图案发生器，专为在 i 线光刻胶中直接写入高分辨率微结构而设计。它源自掩模制作工具，具有所有先进的 VPG 系统组件，能够以最高的精度和准确度进行书写。最大写入区域覆盖 300 mm 晶圆。

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速、灵活的高分辨率图形发生器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，设计用于集成电路、MEMS、微光学和微流体器件、传感器、全息图防伪特征的掩模和晶圆的高通量图案化。

FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。