EC400真空热蒸镀膜仪是一款功能全面的高真空蒸发镀膜设备，专为薄膜制备与研究设计。其核心组件包括真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得与测量系统、气路系统，以及先进的PLC+触摸屏自动控制系统。该设备采用一体化设计，将主机与控制单元紧密结合，不仅操作简便，而且结构紧凑，占地面积小，非常适合实验室环境使用。

PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统，Amod物理气相沉积平台开始允许更大的腔室投射距离，并能够适应更多的工艺增强功能。您的研究目标、生产需求和/或应用最终目标将告知如何装备您的 Amod PVD 平台。

SUSS MicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台：MA100/150e Gen2掩模对准光刻机。化合物半导体工艺，是指诸如高亮发光二极管（HB-LEDs）、功率器件、RF-MEMS等方面的半导体应用。MA100/150e Gen2具备高精度对准功能，上至0.7µm的光刻分辨率，拥有为易碎、翘曲或透明晶圆片定制的传载系统等强大功能和配置。

通过采用结合空心阳极离子枪和磁控管离子枪的新型离子枪，可实现了超精细结构的薄膜。

提供大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案，LED工业要求高产量，高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。