Beneq TFS 200 是有史以来最灵活的原子层沉积研究平台，专为学术研究和企业研发而设计。Beneq TFS 200 经过专门设计，可最大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。

Beneq P1500 是我们最大的原子层沉积系统，专门用于涂覆大型板材和复杂零件。它还用于为较小组件的批次提供更高的吞吐量。我们的客户将 P1500 用于大直径基板上的光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

适用于硬偏置、引线、绝缘层和传感器堆栈沉积 数据存储制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 离子束沉积 （IBD） 系统大幅提高 80Gb/in2 传感器的产量，并满足未来 TFMH 设备制造的需求。

Beneq P800 专门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 P800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ALD 的各种应用。

Beneq P400A 专为以优化的批量大小涂覆不同类型的基材而设计 - 足够大以提供显着的容量，但又足够小以在批次和较短的循环时间内保持出色的均匀性。我们的客户将 P400A 用于光学镀膜和在玻璃或金属板上使用 ALD 的应用。

光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统可以应对这一挑战。自 1990 年代以来，Veeco 已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当今先进的系统。IBD-LDD 系统是当今 EUV 掩模坯料上的钼 （Mo） 和硅 （Si） 多层沉积和钌 （Ru） 封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。