laurell的H6-23型的匀胶机结构紧凑，具有优良的功能，设计为最容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 HL 涂布机系统 将 可容纳最大 150mm 晶圆和 5 英寸 × 5 英寸 （127mm×127mm）基板， 最大转速为 12,000 RPM （基于ø00mm硅片）。

H6-8型匀胶机机结构紧凑，具有优良的功能，设计为最容易安装在手套箱中的旋涂机。这款 650 系列 HL 涂布机系统 将 可容纳最大 200mm 晶圆和 7 英寸 × 7 英寸 （178mm×178mm）基板， 最大转速为 12,000 RPM （基于100mm硅片）。

用于 5G、光子学和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系统 全自动单晶圆簇系统可在 300 毫米基板上生产 5G 射频、光子学和高级 CMOS 器件。

Propel HVM GaN MOCVD 系统，用于电源、5G 射频和光子学，单晶圆反应器技术为电源、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的氮化镓基器件

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

适用于光电应用的 Lumina AS/P 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统